半導(dǎo)體先進(jìn)制程發(fā)展擴(kuò)大EUV市場需求，ASML可望持續(xù)受惠
在先進(jìn)制程納米節(jié)點(diǎn)持續(xù)微縮下，光刻機(jī)是重要關(guān)鍵設(shè)備，半導(dǎo)體光刻機(jī)設(shè)備市場規(guī)模主要有3家設(shè)備供應(yīng)商：ASML、Nikon及Cannon。。
ASML光刻機(jī)
為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV？
就在7納米制程節(jié)點(diǎn)以下先進(jìn)制程的領(lǐng)域，必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影（EUV）設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程，臺積電也自2019年開始，將EUV導(dǎo)入加強(qiáng)版7納米+制程。
ASML公布Q1財報，對今年展望不變
全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)18日發(fā)布2019年第一季財報。第一季銷售凈額(net sales)為22億歐元，凈收入(net income)3.55億歐元，毛利率(gross margin)41.6%。因邏輯芯片客戶需求強(qiáng)勁